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    分子束外延薄膜用超高純臭氧系統介紹

    來(lái)源:www.ri6666.com 作者:同林臭氧 時(shí)間:2024-05-15 17:15

    分子束外延薄膜用超高純臭氧系統介紹

    主要配件

    配備3套低溫蒸發(fā)源(100~1100℃),控溫精度±0.1℃,坩堝容量10cc 配套2套中溫蒸發(fā)源(300~1500℃),控溫精度±0.1℃,坩堝容量10cc 配備15KeV高能電子衍射系統和圖像采集CCD 配備射頻等離子源(433MHz) 配備電子束蒸發(fā)源 配備液化型超高純臭氧系統

    主要參數

    適用1英寸及以下襯底; 襯底加熱可達950℃;

    儀器介紹

    儀器名稱(chēng)(中文/英文)分子束外延薄膜制備系統(MBE)
      ?。停铮欤澹悖酰欤幔颉。猓澹幔怼。澹穑椋簦幔?/td>
    規格型號定制
    儀器功能介紹
    可外延生長(cháng)Pt,  ?。粒?,?。校涞冉饘賳尉П∧?,Ga2O3,?。桑裕?,?。裕椋希驳妊趸锇雽w薄膜以及GaN,  ?。桑睿蔚劝雽w薄膜,用于二維材料、量子器件、超導、半導體、納米器件、光學(xué)及其他材料薄膜沉積研發(fā)
    性能指標
    1、適用1英寸及以下襯底;
    2、襯底加熱可達950℃;
    3、配備3套低溫蒸發(fā)源(100~1100℃),控溫精度±0.1℃,坩堝容量10cc
    4、配套2套中溫蒸發(fā)源(300~1500℃),控溫精度±0.1℃,坩堝容量10cc
    5、腔體本底真空優(yōu)于5x10-10mbar(完全烘烤后)
    樣品要求
    樣片直徑應為1英寸以下的晶圓或不規則碎片;
    儀器說(shuō)明
    1、配備15KeV高能電子衍射系統和圖像采集CCD,能夠檢測薄膜生長(cháng),實(shí)現原子層級精準控制,電子束光斑大?。迹罚唉蹋?,最大電子束束流340μA;
    2、配備射頻等離子源(433MHz),可實(shí)現氧、氮等離子體的產(chǎn)生;
    3、配備電子束蒸發(fā)源:Max高壓是2kV,加熱絲燈絲電流Max4.5A,束流穩定性<0.01A/s=0.2層/min;
    4、配備液化型超高純臭氧系統,液化池出口臭氧濃度>99.5%,最大臭氧濃度15%


    image.png

    液化型超高純臭氧系統



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